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新型光刻膠及玻璃刻蝕應(yīng)用研究
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柔性聚酯膜襯底薄膜電池通過(guò)激光刻蝕等工藝形成集成串聯(lián),激光刻蝕柔性薄膜太陽(yáng)電池復(fù)合背反射層(Ag/ZnO)是其中的重要工藝。首先對(duì)聚酰亞胺(PI)、Ag、ZnO材料的光學(xué)特性進(jìn)行了分析,然后采用1 064nm脈沖激光與532nm脈沖激光分別對(duì)柔性薄膜太陽(yáng)電池復(fù)合背反射層進(jìn)行刻蝕研究。通過(guò)改變重復(fù)頻率、激光功率、掃描速度和焦點(diǎn)位置等參數(shù),分析了激光刻蝕物理機(jī)制,獲得了好的刻蝕效果。結(jié)果表明,1 064nm納秒脈沖激光更適合刻蝕柔性PI襯底復(fù)合背反射層Ag/ZnO,在激光功率860mW、刻蝕速度800mm/s和重復(fù)頻率50kHz下,獲得了底部平整、兩側(cè)無(wú)尖峰的刻線,刻線寬為32μm,滿足柔性薄膜太陽(yáng)電池集成串聯(lián)組件的制備工藝要求。
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