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通過對現(xiàn)有幾種瓷磚拋光機的磨拋過程進行分析,建立了拋光運動數(shù)學模型,進行軌跡仿真,比較了在不同運動狀態(tài)下磨紋的均勻性和磨削面積的大小,結(jié)果表明,行星端面磨拋光機在提高磨削效率和磨紋均勻性方面與其他幾種拋光機相比效果更為理想。
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